摘要： 使用我国战略性新兴产业上市企业的相关数据，基于空间异质性和非线性的双重视角，运用Hansen面板门槛回归技术探讨了研发投入强度对技术效率影响的内在机理。结果表明：研发投入强度对技术效率的影响不是简单的线性效应，而是呈负向门槛效应和边际效率递减的非线性特征；研发投入强度与技术效率之间的非线性关系具有显著的空间差异，中西部地区和全国情况基本一致，而东部则呈明显的U型关系，且其最优研发投入强度区间是0.54%~2.80%；进一步考察发现：在资本结构门槛下，研发投入强度与技术效率之间呈明显的倒U型关系，且其最优资本结构区间为33.87%~65.07%，而在东中西部地区依次呈显著的N型、倒N型和倒N型关系；在资本密度门槛下，研发投入强度与技术效率之间具有显著的倒U型关系，且当资本密度小于3.29%时，研发投入强度对技术效率的促进效应最大，但在东中西部地区分别呈现明显的负向、U型、倒U型关系。